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光刻胶的主要功能是在整个区域进行化学或机械处理工艺时，保护光刻胶下的衬底部分。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光（通过局部光线照射产生潜影，改变局部光刻胶溶解度）、显影（利用显影液溶解改性后光刻胶的可溶部分）与刻蚀等工艺，将掩膜版上的图形转移到衬底上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。在图案化的最后（即在光阻层的涂敷、成像、离子植入和蚀刻之后）进行下一工艺步骤之前，光刻胶残留物需彻底除去。在掺杂步骤中离子轰击会硬化光刻胶聚合物，使得光刻胶变得不易溶解从而更难除去。

本项目计划投资12，000万元用于扩建CMP抛光液的生产系统和相应的厂务系统，包括购置自动加料系统、预混系统、5吨和10吨的生产系统、自动包装系统和自控数据采集系统，并对厂房进行隔间改造，引入全新的生产系统配套的空调、纯水、排水、用气、用电、仓储装修和自动运输系统，建设期预计为2年。

先进的核心技术是公司业务成功的关键因素。公司拥有一系列具有自主知识产权的核心技术，核心技术权属清晰，技术水平国际先进或国内领先，成熟并广泛应用于公司产品的批量生产中。公司的核心技术涵盖了整个产品配方和工艺流程，包括金属表面氧化（催化）技术、金属表面腐蚀抑制技术、抛光速率调节技术、化学机械抛光晶圆表面形貌控制技术、光阻清洗中金属防腐蚀技术、化学机械抛光后表面清洗技术、光刻胶残留物去除技术等。

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从监管的角度来说，刘士余治理下的资本市场是成功的。市场经过两极分化，小股票估值下挫，白马蓝筹股一骑绝尘，流动性开始向龙头集中，机构投资者主导市场。这样的趋势从长期来看无论是对市场还是对监管者都是比较有利的。但是，过程的阵痛也让刘士余一度饱受非议。推进改革需要时刻面临各方主体的利益博弈，随着监管触角的延伸，质疑也随之而来。